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莊雲川
Apr 27 2026
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（圖/ gemini AI）
中華雲新聞網 (文/記者 莊雲川)
半導體機密外洩案震撼產業界！台積電（TSMC）4名前工程師因涉嫌竊取並外流核心營業秘密，遭檢方依國安相關罪名起訴。智慧財產法院今（判決日）宣判，4人分別遭判處10年、6年、3年及2年不等有期徒刑，顯示司法對關鍵技術外洩案件從嚴處理。
本案4名被告包括陳力銘、吳秉駿、戈一平與陳韋傑，法院認定其行為違反國家安全法中「國家核心關鍵技術營業秘密域外使用罪」，並涉及營業秘密法及刑法妨害電腦使用等罪。
此外，陳力銘離開台積電後任職的東京威力科創（台灣分公司）也遭追加起訴，成為國安法首宗起訴法人案例。法院判處該公司罰金新台幣1.5億元，並宣告緩刑3年，同時須支付台積電1億元賠償金及國庫5000萬元。
另方面，東京威力行銷主管盧怡尹因涉嫌指使刪除機密檔案，被依湮滅證據罪判刑10月，緩刑3年。
鎖定14奈米以下先進製程技術
根據檢方起訴內容，主嫌陳力銘原為台積電12廠良率工程師，離職後轉任東京威力科創。為爭取設備供應訂單，他利用過去同事情誼，多次請託仍在職的工程師提供內部機密資料，並將相關文件翻拍、重製後外傳。
涉案內容聚焦於台積電「項次19」關鍵技術，涵蓋14奈米以下製程的IC製造技術，以及相關氣體、化學材料與設備關鍵參數，屬於高度敏感的產業核心機密。
案件曝光源於台積電內部發現異常存取紀錄，經清查後確認4人涉案，隨即向檢方舉報。
檢方：威脅國家競爭力
檢方指出，本案涉及台灣半導體產業命脈，屬於國家核心關鍵技術，一旦外流將嚴重衝擊國際競爭優勢，因此對4人求處重刑，原建議刑度最高達14年。
偵查期間，陳力銘坦承犯行並供出共犯，成為「污點證人」，檢方因此調降其求刑。
半導體供應鏈安全再受關注
此案不僅是近年少見的大規模技術外洩事件，也是首度依國安法追究企業法人責任的案例，凸顯政府對半導體技術保護的高度重視。
隨著先進製程競爭加劇，業界普遍認為，未來企業在資安防護、員工管理及營業秘密保護上的要求將進一步升級，以防止關鍵技術外流風險。
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